PSI entwickelt neues Verfahren zur Herstellung von Halbleitern

02 April 2024 12:20

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Aargau

Villigen AG - Forschende am Paul Scherrer Institut (PSI) entwickeln ein neues Verfahren zum Herstellen von Halbleiterprodukten. Für den Einsatz von EUV-Lithografie hat das Institut eine Kooperation mit dem finnischen Spezialisten PiBond abgeschlossen.

Forschende des in Villigen ansässigen Paul Scherrer Instituts (PSI) haben ein neues Verfahren zum Herstellen von Halbleiterprodukten entwickelt. Wie aus einer Medienmitteilung hervorgeht, ist das Institut zur kommerziellen Verwendung eine strategische Kooperation mit PiBond eingegangen, einem finnischen Spezialisten in der Halbleitertechnologie.

Die neuen Halbleiterprodukte sollen mittels EUV-Lithografie hergestellt werden. Diese Technologie, die auf Basis des Extremen Ultravioletten (EUV) Lichts arbeitet, ermöglicht fotolithografisch feinste Strukturen auf Halbleitern. Mit dem neuen Verfahren können Halbleiterchips nicht nur schneller und energieeffizienter werden, sondern sind auch für den Einsatz mit Künstlicher Intelligenz nutzbar, heisst es in der Mitteilung.

„Die Kooperation mit PiBond ist für das PSI wertvoll und vielversprechend und bietet viele Möglichkeiten für die Weiterentwicklung der genannten Technologie“, wird Yasin Ekinci, Leiter des Labors für Röntgen-Nanowissenschaften und Technologien am PSI, in der Mitteilung zitiert. „Unsere Partnerschaft mit dem PSI, einem seit langem führenden Institut auf diesem Gebiet, ist wichtig. Diese Zusammenarbeit hat wesentlich zu unseren Fortschritten in der Material- und Prozessentwicklung für zukünftige Produktionsverfahren beigetragen, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation erforderlich sind, und wird dies weiterhin tun“, ergänzt Thomas Gädda, Chief Technology Officer von PiBond. ce/eb

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